鋰電世界 1、太陽能級多晶硅及單晶硅生長、切割、清洗設(shè)備產(chǎn)業(yè)化
多晶硅生長設(shè)備：突破熱場分控技術(shù)、定向凝固技術(shù)，實(shí)現(xiàn)投料量噸級及以上產(chǎn)品硅鑄錠爐的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，并實(shí)現(xiàn)成品率達(dá)到75%以上。
單晶硅生長設(shè)備：突破單晶生長全自動控制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)8英寸（156 毫米156 毫米硅片）以上尺寸全自動單晶爐產(chǎn)業(yè)化。
切割設(shè)備：突破張力控制軟件技術(shù)、水冷卻氣密封技術(shù)、砂漿溫度閉環(huán)控制技術(shù)等關(guān)鍵技術(shù)，保證能滿足太陽能硅片大生產(chǎn)切割需求，切割硅片尺寸8英寸，切割精度優(yōu)于10微米、厚度在180微米以下的太陽能硅片多線切割機(jī)產(chǎn)業(yè)化。
清洗設(shè)備：突破槽體溫度控制技術(shù)、溶液循環(huán)技術(shù)、大行程直線傳輸技術(shù)等關(guān)鍵技術(shù)，提升產(chǎn)品質(zhì)量的一致性，實(shí)現(xiàn)碎片率小于0.3的太陽能晶硅清洗制絨設(shè)備產(chǎn)業(yè)化，促進(jìn)晶硅太陽能電池片轉(zhuǎn)化效率提升。
2、全自動晶硅太陽能電池片生產(chǎn)線設(shè)備研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化
重點(diǎn)發(fā)展擴(kuò)散爐、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD）等關(guān)鍵設(shè)備，突破單機(jī)自動化及生產(chǎn)線設(shè)備之間物流傳輸自動化技術(shù)，實(shí)現(xiàn)整線自動化集成。
重點(diǎn)突破自動圖像對準(zhǔn)技術(shù)、柔性傳輸技術(shù)、高精度印刷技術(shù)、高速高精度對準(zhǔn)技術(shù)、測試分選技術(shù)、智能化控制及系統(tǒng)集成技術(shù)，進(jìn)一步提高電池片電極印刷、烘干、測試分選速度，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)能達(dá)到1440片/小時(shí)以上、碎片率低于0.5%的全自動太陽能印刷線設(shè)備產(chǎn)業(yè)化。
3、薄膜太陽能生產(chǎn)設(shè)備
硅基類薄膜太陽能電池設(shè)備：重點(diǎn)提高大面積沉積的均勻性，進(jìn)一步提升設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性，適度提升自動化程度，提高生產(chǎn)效率。
碲化鎘（CdTe）薄膜太陽能電池設(shè)備：突破真空鍍膜設(shè)備技術(shù)難點(diǎn)，研發(fā)新型升華源的結(jié)構(gòu)，進(jìn)一步提高溫度均勻性，開發(fā)在高溫、真空環(huán)境下的傳動系統(tǒng)。
銅銦鎵硒（CIGS）薄膜太陽能電池設(shè)備：突破真空鍍膜設(shè)備、材料濺射、硒化技術(shù)等技術(shù)難點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)元素配比的精確控制，保證大面積沉積的均勻性，提高生產(chǎn)效率，降低制造成本。實(shí)現(xiàn)0.7平方米以上、電池轉(zhuǎn)化效率達(dá)14%以上的CIGS整線設(shè)備集成。